紫外曝光機，也稱光刻機、掩模對準曝光機、曝光系統(tǒng)、光刻系統(tǒng)等，是印刷線路板（PCB）制作工藝中的重要設備。
一般的光刻工藝要經歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對準曝光、后烘、顯影、硬烘、刻蝕等工序。
其主要性能指標有：支持基片的尺寸范圍，分辨率、對準精度、曝光方式、光源波長、光強均勻性、生產效率等。
紫外曝光機鏡片 系統(tǒng)組成及其工作原理：
傳統(tǒng)曝光機光學系統(tǒng)主要由光源（高壓球形汞燈）、橢球面反光杯、冷光鏡、透射式復眼光學透鏡陣列、二向色鏡和球面平行光反射鏡組成。
其中，光刻機內部的反射鏡會積聚來自 EUV 光源的錫碎屑。光源發(fā)出的光被橢球面反光杯聚焦后，經冷光鏡反射到復眼透鏡陣列場鏡，從投影鏡出射的光到達二向色鏡，
光譜中的紫外部分被50%透射，50%反射后，到達兩塊對稱分布的大面積球面平行反光鏡，被準直反射到曬板上對PCB板進行曝光。
“EUV光刻機的光源是極紫外光，所以其實際上叫做極紫外線光刻機。而蔡定平教授團隊研發(fā)的新型真空紫外非線性超構透鏡，能夠產生和聚焦極紫外光，并能夠將波長395nm轉化為197nm 。聚焦光點的功率密度比超構透鏡高了21倍?！?/h4>
據悉，這一突破能夠應用于EUV光刻機之中，幫助國產光刻機突破技術瓶頸。并且，這一技術還屬于EUV光刻機的核心技術，對實現EUV光刻機自主有重大意義。
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紫外曝光機、光刻機會使用到的光學元件包含：光學透鏡、光學棱鏡、TIR棱鏡、光棒、濾光片、衰減片、反射鏡。
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